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清华的“光刻厂”梦想,要被马斯克实现了?

2026年08月11日 12:47
自由电子激光与稳态微聚束固然为突破光刻产能瓶颈描绘了一幅令人血脉偾张的物理蓝图,但半导体工业从不缺少天才的物理设想,真正决定胜负的,永远是那些埋藏在纳米尺度下的工程细节与良率曲线
特斯拉与SpaceX联合官宣超级芯片工厂Terafab正式落户美国得克萨斯州格赖姆斯县。一期直接砸下168亿美元,远期总投入最高可达1190亿美元,建设地球上规模最大芯片制造基地。图:视觉中国

  2026年8月6日,马斯克抛出重磅计划:特斯拉与SpaceX联合官宣超级芯片工厂Terafab正式落户美国得克萨斯州格赖姆斯县。一期直接砸下168亿美元,远期总投入最高可达1190亿美元,建设地球上规模最大芯片制造基地。而本次官宣最颠覆行业的一步,是马斯克亲自在社交平台确认:工厂未来将落地自由电子激光(FEL)光刻技术,跳出ASML传统锡基EUV光刻机路线。

  这一表态迅速掀起了半导体界与科技圈的巨浪——马斯克试图通过建设巨型粒子加速器,用自由电子激光颠覆传统EUV(极紫外)光刻路线。

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责任编辑:张帆 | 版面编辑:刘春辉
图片编辑:李泊静

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于达维
毕业于北京大学地球物理系,美国怀俄明大学大气物理专业硕士,有20多年科技记者及科技产业研究员资历,曾任职《瞭望东方周刊》《财新周刊》和财新智库,现为独立撰稿人。